产品描述：

一.概述：

本蒸发源系坩埚由电机直接驱动、电子束偏转角为270º、用于蒸镀各种金属和非金属材料的磁偏转式E型电子束蒸发装置。

用于真空镀膜过程中电子束蒸发镀膜。实际中广泛应用于：增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。

电子束蒸发能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性，增加镀膜的一致性和重复性，薄膜易于控制。

主要特点：

结构先进

充分借鉴国内外先进的电子枪的优点，具有独特的水冷和密封结构，经多次长时间的实验证明，电子枪能够在很大的电子束流下长期稳定工作。

可在高温环境下长期可靠工作

在通常镀膜工艺中，工件需加热至很高温度，整个真空室内温度很高，而本电子枪良好的冷却系统能保证电子枪在 400℃的高温环境下长期正常工作。

完全适用于反应气体

在反应沉积镀膜过程中，通常需要用氧气或氮气等与蒸发的膜料进行反应沉积所需薄膜，在此过程中增加反应气体的活性和能量，对形成高质量薄膜至关重要。

本电子枪可以在完全通入反应气体下正常工作。

安装简便、维护简单运行成本低

本电子枪的安装非常简单，耗材只是灯丝及磁件，日常维护工作主要是更换灯丝及磁件。

操作简单

电子枪的操作简单，通过调节电子枪的电子束束流以及扫描幅度即可使电子枪稳定工作(手动及全自动)。控制面板上能直接观察到灯丝电压、电流。

二、主要技术参数：