产品描述：

用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。

　　电子束蒸镀法的特征

　　用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。

　　镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热式那样与坩埚发生反应。

　　*可能需要使用坩埚内衬。

　　能迅速控制输出，因而能精确地控制膜厚。

　　与溅射法及 CVD 法相比，能快速镀膜是一大特征。

　　对形成1µm 以上的厚膜也很有效。

　　电子枪/电源的特征

　　[ 氧化物 ]

　　电子束垂直照射镀膜材料，束斑近似圆形，具有能量密度高的特征。此外，由于标准配备了快速扫描功能，非常适合蒸镀融点高、热传导性低的氧化物及升华性材料，能获得良好的熔痕，大面积的镀膜区域上膜厚分布均匀，重现性好。

　　[ 金属 ]

　　坩埚的选择范围很大，能进行多种、大量、高速率的蒸镀，还有用来抑制成膜时温度上升的剥离工艺用电子枪。

　　[ 合金复合膜 ]

　　往临近的两个或三个坩埚内充填不同的材料，使用专用的扫描控制器进行双源或三源蒸发，可以形成合金膜和复合膜。

　　本电子枪用特种刚才加工而成，有很好的放电性能和抗下垂性能，能保证长期高温环境工作过程中不变形，放电效果或辉光效果良好!

　　无论那种类型的电子枪，它们均由电子的发射极——阴极、电子注形状的限制极——聚焦极和电子的加速引出极——阳极三部分组成。不同环境下使用的电子枪其结构会是多种多样的，但是其基本组成部分是不变的。在工作中通常聚焦极的电位等于或接近于阴极电位，用以限制电子注的形状，而在阴极和阳极之间加上加速电压(阳极电压)。当电子从阴极发射出来，将与由上述电极和电子注本身的空间电荷建立的静电场发生作用，形成具有一定形状的电子注，并从阳极孔射出以供使用。为了使电子的轨迹沿阴极曲率半径方向，需将球面电极的边缘加以修正，因此在阴极外围加有聚焦极。